C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 73/16 (2006.01) G03F 7/027 (2006.01)
Patent
CA 2550676
Disclosed is a novel polyamide acid resin (A) containing an unsaturated group which is suitable for a photosensitive resin composition. Also disclosed is a photosensitive resin composition using such a polyamide acid resin which is excellent in photosensitivity. A cured product of such a photosensitive resin composition is excellent in flexibility as well as in adhesiveness, pencil hardness, solvent resistance, acid resistance, heat resistance, gold plating resistance and the like. The polyamide acid resin (A) containing an unsaturated group is obtained by reacting a polyester resin (a) containing an unsaturated group wherein an anhydride group is at the end and a compound (b) having two amino groups in a molecule. The photosensitive resin composition contains such a polyamide acid resin (A) containing an unsaturated group, a crosslinking agent (B) and a photopolymerization initiator (C).
L'invention concerne une nouvelle résine d'acide polyamide (A) contenant un groupe insaturé conçu pour s'utiliser dans une composition de résine photosensible. L'invention concerne aussi une composition de résine photosensible utilisant cette résine d'acide polyamide, qui possède une excellente photosensibilité. Un produit durci, obtenu à partir de cette résine photosensible, possède une excellente flexibilité ainsi qu'une bonne force d'adhérence, une bonne résistance aux crayons, aux solvants, aux acides, aux températures élevées, au plaquage à l'or ou similaire. La résine d'acide polyamide (A) contenant un groupe insaturé est obtenue par la réaction d'une résine de polyester (a) contenant un groupe insaturé, dans lequel un groupe d'anhydride se situe à l'extrémité, et un composé (b) contenant deux groupes aminés dans une molécule. La composition de résine photosensible contient un acide polyamide (A) contenant un groupe insaturé, un agent de réticulation (B) et un initiateur de photopolymérisation (C).
Amishima Chika
Kametani Hideaki
Koyanagi Hiroo
Tanaka Ryutaro
Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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