C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 69/40 (2006.01) C08G 69/44 (2006.01)
Patent
CA 2060269
La présente invention concerne des copolymères séquencés de formule Image dans laquelle D représente le reste d'un oligoamide diacide de Mn compris entre 300 et 3000 et de préférence entre 500 et 2000 et/ou le reste du limitateur diacide, PE représente le reste d'un polyétherdiol de Mn compris entre 200 et 5000 et de préférence entre 200 et 3000. Ils sont préparés par réaction de multiséquencés diacides Image et de diamines NH2-X-NH2.
Cuzin Daniel
Maj Philippe
Elf Atochem S.a.
Robic
LandOfFree
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