G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/08 (2006.01) B32B 15/08 (2006.01) C03C 17/38 (2006.01) C03C 17/42 (2006.01) G02B 5/28 (2006.01) H01B 3/00 (2006.01)
Patent
CA 2324267
A multilayer dielectric film structure includes a pair or plurality of materials at least one being a polymer and the other of high index of refraction inorganic material (compared to the polymer) at the wavelengths of interest. The structure is fabricated by a combination of layering techniques, one of which is used to create a layer of the polymer, the other being used to deposit the inorganic component. The assembly process yields a structure of alternating polymer and inorganic layers of high index of refraction (compared to air). The structure preferably will reflect light within a certain frequency range of any polarization and at a continuum of angles of incidence ranging from normal to oblique. In a particular embodiment of the invention, the structure includes alternating layers of a polymer, e.g., polystyrene and Tellurium.
Une structure de film diélectrique multicouche comprend une paire ou une pluralité de matériaux dont au moins un est un polymère et l'autre un matériau inorganique à indice de réfraction élevé (comparé au polymère, aux longueurs d'ondes d'intérêt). La structure est fabriquée par une combinaison de techniques de structuration en couches, dont une est utilisée pour créer une couche du polymère, l'autre étant utilisée pour le dépôt d'un composant inorganique. Le processus d'assemblage produit une structure de couches polymères et inorganiques alternées d'indice de réfraction élevé (comparé à l'air). La structure de préférence réfléchit la lumière dans une certaine gamme de fréquences de n'importe quelle polarisation et en un continuum d'angles d'incidence allant de vertical à oblique. Dans un mode de réalisation particulier de l'invention, la structure comprend des couches alternées d'un polymère, par exemple, du polystyrène et de tellure.
Chen Chiping
Fan Shanhui
Fink Yoel
Joannopoulos John D.
Thomas Edwin L.
Fetherstonhaugh & Co.
Massachusetts Institute Of Technology
LandOfFree
Polymer-inorganic multilayer dielectric film does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Polymer-inorganic multilayer dielectric film, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Polymer-inorganic multilayer dielectric film will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1775356