Polymer optical waveguide and method for fabricating the same

Details Polymer optical waveguide and method for fabricating the same Polymer optical waveguide and method for fabricating the same

G - Physics

02

B

G02B 6/10 (2006.01) G02B 6/122 (2006.01) G02B 6/136 (2006.01)

Patent

CA 2308484

The present invention discloses a polymer optical waveguide and a method of fabricating the same. The polymer optical waveguide comprises a core formed of polymer containing fluoride (F) of a 12-37 wt.% on the basis of total weight of the polymer, and having repeating units with at least two -C(=O)-N-C(=O) functional groups or at least four -N-C(=O)- functional groups; and a cladding in contact with the core and formed of polymer having a refractive index lower than the polymer for forming the core. If a core layer is etched according to the ICP etching method, the etch rate becomes at least three times faster than that of the conventional RIE etching method. Also, etching characteristics including uniformity of an etched plane and vertical profile are improved, thereby reducing damage to an optical waveguide. Thus, the light scattering loss of the optical waveguide can be minimized. Also, the method for fabricating of a polymer optical waveguide according to the present invention is useful for mass production of polymer optical waveguides.

La présente invention se rapporte à un guide d'ondes optiques en matériau polymère et à son procédé de fabrication. Ce guide d'ondes optiques possède une âme fabriquée dans un matériau polymère contenant 12 à 37 % en poids de fluor (F), par rapport au poids total du polymère, et comportant des motifs répétitifs incluant au moins deux groupes fonctionnels -C(=O)-N-C(=O) et au moins quatre groupes fonctionnels -N-C(=O)-, et une gaine optique en contact avec l'âme et fabriquée dans un matériau polymère ayant un indice de réfraction inférieur à celui du polymère constituant l'âme. Si l'on grave une couche de l'âme conformément au procédé de gravure par plasma inductif (ICP), on parvient à graver au moins trois fois plus rapidement que par la technique classique de gravure par ions réactifs (RIE). On améliore ainsi les caractéristiques de gravure et notamment l'uniformité du plan gravé et du profil vertical, ce qui permet de réduire les dégâts occasionnés au guide d'ondes optiques. On peut ainsi réduire la perte de diffusion de la lumière du guide d'ondes optiques. L'invention se rapporte également à un procédé de fabrication d'un guide d'ondes optiques en matériau polymère tel que celui décrit ci-dessus, qui est adapté à la fabrication en série de guides d'ondes optiques en matériau polymère.

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