C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 7/21 (2006.01) A61K 6/093 (2006.01)
Patent
CA 2355048
The invention relates to novel cyclic siloxane compounds of general formula (I) which despite having a high density of groups that are suitable for polymerisation, have a low viscosity, allow a high filler intake and result in substances with a low polymerisation shrinkage. The inventive monomers are especially suitable for producing dental materials.
L'invention concerne de nouveaux composés de siloxane cycliques de formule (I), dans laquelle: n vaut 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10 de préférence 1, 2, 3, 4, 5; A représente H ou alkyle C¿1?-C¿15? ou alcényle C¿1?-C¿15?, cycloalkyle C¿3?-C¿15? ou cycloalcényle C¿3?-C¿15?, aryle C¿6?-C¿12?, alkaryle C¿8?-C¿18? (dans les groupes mentionnés, un ou plusieurs atomes de C pouvant être remplacés par O, C=O, O(C=O), SiR¿2? et/ou NR, R représentant un groupe aliphatique comportant 1 à 7 atomes de C, dans lequel un ou plusieurs atomes de C peuvent être remplacés par O, C=O et/ou O(C=O); B représente E ou un groupe hydrocarbure linéaire, ramifié ou polycyclique, renfermant des groupes aliphatiques ou aromatiques, qui relie entre eux 2 à 10 des groupes cyclosiloxane définis ci-dessus, à l'exception de B, et renferme 2 à 50 atomes de carbone et 0 à 30 autres atomes du groupe O, N, S, P, Si, Cl, F, Br, I, et auquel 1 à 9, de préférence 1 à 4 des groupes cyclosiloxane définis ci-dessus, à l'exception de B, sont liés; E représente A ou un groupe polymérisable G-Q-L, en moyenne jusqu'à 50 % ou moins des groupes E correspondant à des représentants de A; G représente alkyle C¿1?-C¿10? ou alcénylène C¿1?-C¿10?; Q représente O, N-A ou un groupe alcool, amine ou aminoalcool présentant au moins deux sites radicalaires, linéaire, ramifié ou cyclique, comportant 2 à 10 atomes de C; L représente un groupe organique contenant une double liaison C=C et comportant 2 à 10 atomes de C; et à condition qu'aucun système siloxane annelé ne puisse être présent dans (I). L'invention concerne également des matériaux dentaires qui contiennent des composés de formule (I) et/ou des composés de formule (II), dans laquelle les groupes T représentent indépendamment l'un de l'autre H ou alkyle C¿1?-C¿10? ou alcényle C¿1?-C¿10?, cycloalkyle C¿3?-C¿10? ou cycloalcényle C¿3?-C¿10?, aryle C¿6?-C¿12? ou alkaryle C¿8?-C¿18?; N représente un groupe polymérisable R?1¿-R?2¿-R?3¿; b est compris entre 0 et 500, la proportion de b s'élevant au maximum à 50 % des motifs récurrents (b+c); c est compris entre 1 et 1000; R?1¿ représente alkyle C¿1?-C¿10? ou alcénylène C¿1?-C¿10?; R?2¿ représente O, N-T ou un groupe alcool, amine ou aminoalcool présentant au moins deux sites radicalaires, linéaire, ramifié ou cyclique, comportant 2 à 10 atomes de C; R?3¿ représente un groupe organique contenant une double liaison C=C et comportant 3 à 10 atomes de C; V représente SiMe¿2?T, SiEt¿2?T, SiMePhT, SiPh¿2?T.
Bissinger Peter
Eckhardt Gunther
Gasser Oswald
Guggenberger Rainer
Soglowek Wolfgang
3m Espe Ag
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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