C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 69/44 (2006.01)
Patent
CA 2130488
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne des copolymères séquencés comprenant des blocs polyéther et des blocs polyamides. Ils peuvent être formés soit par la condensation de polyamides à extrémités carboxyliques, de polyéthers diols et de polyéthers diamines, soit par la condensation de lactames (ou amino acides, ou diacides et diamines) et d'un diacide limitateur de chaîne; de polyéthers diols et de polyéthers diamines. Les polymères de l'invention ont des masses molaires suffisamment élevées pour présenter de bonnes propriétés mécaniques. De plus ceux-ci contiennent très peu de produit de dégradation et ils n'exsudent donc pas.
Judas Didier
Sage Jean-Marc
Elf Atochem S.a.
Robic
Sudsuansri Espiard Kobkul
LandOfFree
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