Polymers containing polyether sequences and polyamide sequences

C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G

Patent

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Details

C08G 69/44 (2006.01)

Patent

CA 2130488

PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne des copolymères séquencés comprenant des blocs polyéther et des blocs polyamides. Ils peuvent être formés soit par la condensation de polyamides à extrémités carboxyliques, de polyéthers diols et de polyéthers diamines, soit par la condensation de lactames (ou amino acides, ou diacides et diamines) et d'un diacide limitateur de chaîne; de polyéthers diols et de polyéthers diamines. Les polymères de l'invention ont des masses molaires suffisamment élevées pour présenter de bonnes propriétés mécaniques. De plus ceux-ci contiennent très peu de produit de dégradation et ils n'exsudent donc pas.

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