C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
C08G 65/332 (2006.01) A61L 27/18 (2006.01) C08B 37/16 (2006.01) C08L 71/02 (2006.01)
Patent
CA 2547691
A process for producing a polyrotaxane in a high yield and at a satisfactory cost without using a large excess of a pseudopolyrotaxane and/or without using a large excess of an activated reagent. The process for polyrotaxane production comprises: a clathration step in which a carboxylated polyethylene glycol which is a polyethylene glycol carboxylated at each end is mixed with cyclodextrin molecules to obtain a pseudopolyrotaxane which comprises cyclodextrin molecules which include the carboxylated polyethylene glycol in their spaces as if the cyclodextrin molecules are spitted with the carboxylated polyethylene glycol; and a blocking step in which the pseudopolyrotaxane is reacted with blocking groups having -NH2 or -OH to obtain a polyrotaxane terminated at each end by a -CO-NH-(blocking group) or - CO-O-(blocking group).
Cette invention concerne un procédé permettant de produire un polyrotaxane avec un rendement élevé et à des coûts satisfaisants sans l'aide d'un grand excédent d'un pseudopolyrotaxane et/ou sans l'aide d'un grand excédent d'un réactif activé. Le procédé de production de polyrotaxane de cette invention comprend une étape de clathration dans laquelle un polyéthylène glycol carboxylé, qui est un polyéthylène glycol carboxylé à chaque extrémité, est mélangé à des molécules de cyclodextrine afin qu'on obtienne un pseudopolyrotaxane qui comprend des molécules de cyclodextrine comprenant le polyéthylène glycol carboxylé dans leurs espaces comme si les molécules de cyclodextrine étaient éclaboussées de polyéthylène glycol carboxylé; et une étape de blocage dans laquelle le pseudopolyrotaxane réagit avec des groupes bloquants comprenant -NH¿2? ou -OH afin qu'on obtienne un polyrotaxane qui se termine à chaque extrémité par un -CO-NH-(groupe bloquant) ou un -CO-O-(groupe bloquant).
Araki Jun
Ito Kohzo
Zhao Changming
Smart & Biggar
The University Of Tokyo
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1365620