C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 83/04 (2006.01) B32B 9/04 (2006.01) C08F 2/46 (2006.01) C08F 4/80 (2006.01) C08G 77/42 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01) C08L 83/07 (2006.01)
Patent
CA 2488091
A process characterized in that a polysiloxane of specified chemical structure having at least two unsaturated aliphatic hydrocarbon groups per molecule is reacted with an organosilicon compound having per molecule at least two hydrogen atoms directly bonded to silicon atom in the presence of a platinum catalyst to thereby obtain a film of crosslinked polysiloxane. This process enables providing a polysiloxane film of high independence that is highly thermostable, exhibits high transparency in the visible light region, exhibits low birefringence and has practicable properties. This polysiloxane film can be overlaid with an inorganic substance layer so as to obtain a laminate film used as, for example, a transparent electrode film or the like.
La présente invention a trait à un procédé caractérisé en ce qu'on fait réagir un polysiloxane de structure chimique spécifique présentant au moins deux groupe hydrocarbonés aliphatiques insaturés par molécule avec un composé organosilicié présentant par molécule au moins deux atomes d'hydrogène en liaison directe avec l'atome de silicium en présence d'un catalyseur de platine pour ainsi obtenir un film de polysiloxane réticulé. Le procédé permet de réaliser un film polysiloxane d'indépendance élevée hautement thermostable, présentant une transparence élevée dans la région de la lumière visible, une faible biréfringence et comprenant des propriétés de maniabilité. Ce film polysiloxane peut être superposé d'une couche de substance inorganique en vue d'obtenir un film laminé utilisé, par exemple, comme film d'électrode transparent ou analogue.
Katsoulis Dimitris Elias
Kushibiki Nobuo
Suto Michitaka
Dow Corning Asia Ltd.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Katsoulis Dimitris Elias
Kushibiki Nobuo
Suto Michitaka
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1389773