C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
261/1, 402/10, 2
C07F 7/10 (2006.01) C04B 35/571 (2006.01) C04B 35/58 (2006.01) C04B 35/589 (2006.01) C08G 77/54 (2006.01)
Patent
CA 1331195
PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne des polysiloxazanes du type comprenant des motifs de formule: Image et/ou Image (I) associés à des motifs de formule: Image (II) et, le cas échéant, associés à des motifs de formules (III) et/ou (IV): Image (III) Image (IV) formules dans lesquelles les radicaux R1, R2, R3 et R4, qui peuvent être identiques ou différents, peuvent représenter un atome d'hydrogène, un radical hydrocarboné aliphatique saturé ou insaturé, ou un radical aryle mono- ou poly- cyclique, alkylaryle ou arylalkyle, et présentant une masse moléculaire supérieure à 350. L'invention concerne également un procédé de préparation de ces polysiloxazanes par réaction d'un halogénosilane avec une hydrazine et de l'eau. Les polysiloxazanes obtenus peuvent être mis en forme et pyrolysés en céramiques.
586035
Colombier Christian
Cuer Jean-Pierre
Atochem
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1319772