Positive photoresist composition

Details Positive photoresist composition Positive photoresist composition

G - Physics

03

F

G03F 7/039 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/09 (2006.01)

Patent

CA 2240564

A chemical amplifying type positive photoresist composition, excellent in various properties, particularly in TDE resistance as well as sensitivity and resolution, and able to suppress unfavorable halation effect without deteriorating profile, which comprises (A) a resin which is converted to alkali-soluble from alkali-insoluble or alkali slightly soluble by the action of an acid, (B) an acid generator, (C) a basic compound and (D) a fluorenone compound represented by the following formula (I): Image wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 and R8 each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 6 carbon atoms which may be optionally substituted with halogen, halogen or nitro is provided; and a precise fine photoresist pattern can be formed in high precision using the photoresist composition.

Divulgation d'une composition de résine positive de type amplificateur chimique, excellente sous divers aspects, en particulier en ce qui concerne la résistance à l'effet de temporisation, la sensibilité et la résolution, capable de supprimer les effets de halo non désirés sans détériorer le profil, qui comprend (A) une résine qui est convertie sous l'action d'un acide, d'une résine insoluble ou légèrement soluble dans les alcalis en une résine soluble dans les alcalis, (B) un générateur d'acide, (C) un composé basique et (D) un composé fluorénonique représenté par la formule suivante (I) : Image , dans laquelle R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 et R8 représentent, chacun de manière indépendante, un atome d'hydrogène, un groupement alkyle en C1-C6, facultativement substitué par un atome d'halogène, ou un groupement nitro. Un motif à photorésine précis, fin, peut être réalisé avec une haute précision à l'aide de cette composition de résine positive.

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