C - Chemistry – Metallurgy – 11 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
11
D
C11D 3/02 (2006.01) B08B 3/08 (2006.01) C11D 3/16 (2006.01) C11D 3/39 (2006.01)
Patent
CA 2169636
A pH greater than 7 aqueous ozonized cleaning composition can be used for cleaning a tenacious residue or film from solid surfaces. The cleaning properties can be potentiated by additive materials. Ozone, generated by electrical discharge, can be blended into effective aqueous cleaning compositions that can efficiently clean proteinaceous, oily or carbohydrate soil from a variety of surfaces. Immediately after ozone generation, the ozone containing gas stream comprising ozone and the residual air is injected through a hose into an aqueous potentiating additive containing carrier solution, forming a cleaning solution which is applied immediately to a soiled solid surface to remove a contaminating residue or film.
L'invention se rapporte à une composition de nettoyage ozonisée, aqueuse, ayant un pH supérieur à 7, et qui peut être utilisée pour éliminer sur des surfaces solides un résidu ou film tenace. Les propriétés nettoyantes peuvent être renforcées par des matières additives. L'ozone, généré par décharges électriques, peut être mélangé dans des compositions de nettoyage aqueuses, efficaces, qui permettent d'éliminer efficacement sur une variété de surfaces une souillure composée de protéines, d'huile ou d'hydrates de carbone. Immédiatement après la génération de l'ozone, le courant gazeux contenant l'ozone et l'air résiduaire est injecté par l'intermédiaire d'un tuyau souple dans une solution porteuse contenant un additif potentialisateur aqueux, formant une solution de nettoyage qui est appliquée immédiatement sur une surface solide souillée afin d'éliminer un résidu ou film contaminant.
Hei Robert D.
Oakes Thomas R.
Wei Guang-Jong J.
Cassan Maclean
Ecolab Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1517659