A - Human Necessities – 61 – L
Patent
A - Human Necessities
61
L
A61L 2/14 (2006.01) A61L 2/18 (2006.01) A61L 2/20 (2006.01) A61L 2/24 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
Patent
CA 2357957
The present invention provides a sterilization system that includes a low frequency power feedback control system for controllably adjusting a power applied to a low frequency plasma within a vacuum chamber of the sterilization system to remove gas or vapor species from the article. The power has a frequency of from 0 to approximately 200 kHz. The low frequency power feedback control system includes a power monitor adapted to produce a first signal indicative of the power applied to the low frequency plasma within the vacuum chamber. The low frequency power feedback control system further includes a power control module adapted to produce a second signal in response to the first signal from the power monitor, and a power controller adapted to adjust, in response to the second signal, the power applied to the low frequency plasma to maintain a substantially stable average power applied to the low frequency plasma while the article is being processed.
La présente invention fournit un système de stérilisation qui comprend un système de contrôle de la puissance active basse fréquence pour contrôler une puissance appliquée à un plasma basse fréquence dans une chambre à vide du système de stérilisation pour supprimer les espèces de gaz ou de vapeur de l'article. La puissance a une fréquence de 0 à environ 200 kHz. Le système de contrôle de la puissance active basse fréquence comprend un moniteur de puissance adapté pour produire un premier signal indicatif de la puissance appliquée au plasma basse fréquence dans la chambre à vide. Le système de contrôle de la puissance active basse fréquence comporte en outre un module de contrôle de puissance adapté pour produire un deuxième signal en réponse au premier signal du moniteur de puissance, et un contrôleur de puissance adapté pour ajuster, en réponse au deuxième signal, la puissance appliquée au plasma basse fréquence pour maintenir une puissance moyenne essentiellement stable appliquée au plasma basse fréquence pendant que l'article est traité.
Agamohamadi Mitch
Choperena Alfredo M.
Lemus Anthony
Platt Robert C. Jr.
Ethicon Inc.
Norton Rose Or S.e.n.c.r.l. S.r.l./llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1936958