C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
260/321, 260/306
C07D 209/44 (2006.01) C07D 209/46 (2006.01) C07D 209/48 (2006.01) C07D 401/02 (2006.01) C07D 401/04 (2006.01) C07D 405/04 (2006.01) C07D 409/04 (2006.01)
Patent
CA 1213892
P R E C I S De nouveaux dérivés de la sulfonylurée, utilisables comme médicaments, et répondant à la formule : Image dans laquelle : n représente 1 ou 2 ; R est un radical thiényle, furyle, pyridyle ou phényle éventuellement mono ou disubstitué ; R1 et R2 sont identiques ou différents et représentent chacun un atome d'hydrogène, ou d'halogène, un radical alcoyle ou alcoxy de C1 à C5, un radical trifluorométhyle, ou ensemble -CH2-O-CH2- ; R3 est un atome d'hydrogène ou hydroxyle, et R4 est alcoyle de C1 à C5, cycloalcoyle de C3 à C8, ou azacycloalcoyle Image p étant un nombre entier de 1 à 5, ou un radical azabicycloalcoyle : Image m étant 1, 2 ou 3 et leurs sels d'addition avec des agents basiques appropriés ont été préparés ; à partir des acides benzoïques de formule : Image et des composés de formule : Image Les nouveaux composés (I) et leurs sels physiolo- giquement tolérables peuvent être utilisés en thérapeu- tique notamment dans le traitement du diabète.
437340
Beregi Laszlo
Boulanger Michelle
Duhault Jacques
Hugon Pierre
Adir
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1195452