Presensitized lithographic printing plate and method for...

G - Physics – 03 – F

Patent

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G03F 7/09 (2006.01) B41C 1/10 (2006.01) G03F 1/00 (2006.01) G03F 7/095 (2006.01) G03F 7/14 (2006.01) G03F 7/26 (2006.01)

Patent

CA 2171472

Object: A method for preparing a lithographic printing plate directly from digital image signals with the use of a presensitized lithographic printing plate comprising a support having thereon a photosensitive layer and a light-shielding layer which can be removed imagewise with laser light is provided, wherein the light-shielding layer, which can be industrially produced readily at a moderate price can be removed sufficiently during a process of development without the need of removing a masking layer at an unexposed portion and adverse effect on a photosensitive layer. Constitution: A lithographic printing plate can be obtained by making use of a presensitized lithographic printing plate comprising a support having thereon a photosensitive layer containing o-quinonediazide compound, photo-degradable or photo-polymerizable resin and water-soluble resin and a light- shielding layer containing an infrared absorbing material and a material capable of absorbing the photosensitive wavelength of the photosensitive layer and by a process comprising ablating imagewise the light-shielding layer with laser light, overall-exposing with a ray active to the photosensitive layer to cause photochemical change of the photosensitive layer in which the light-shielding layer has been removed by ablation (e. g., making alkali-soluble) and dissolving out the photosensitive layer at a non-imaging area.

Procédé de préparation d'une plaque lithographique directement à partir de signaux d'image numériques, qui consiste à utiliser un élément initial comportant un substrat, une couche photosensible et une couche interceptant la lumière qui peut être enlevée par faisceaux laser pour former des images. Ladite couche interceptant la lumière peut être aisément produite industriellement à faibles coûts et il n'est pas nécessaire de l'enlever d'une zone non exposée. La formation de cette couche interceptant la lumière ne produit pas d'effets adverses sur la couche photosensible, et la couche interceptant la lumière peut être enlevée de manière satisfaisante par développement. On produit une plaque lithographique en préparant un élément initial qui comprend un substrat, une couche photosensible (contenant des composés d'o-quinonediazide, une résine photo(dé)-polymérisable, une résine hydrosoluble, etc.) et une couche interceptant la lumière (contenant une substance qui absorbe les infrarouges et une substance qui absorbe la lumière de la longueur d'onde à laquelle la couche photosensible est sensible) dans cet ordre, en faisant exploser la couche interceptant la lumière à l'aide de faisceaux laser pour perforer ladite couche et y former une image et en exposant la surface entière de la couche photosensible à des rayons de lumière actifs pour induire une photoréaction (par ex. solubilisation alcaline) sur la partie de la couche photosensible qui correspond à la perforation de la couche interceptant la lumière, puis en dissolvant la couche photosensible dans la zone sans image avec un révélateur.

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