Procedure and device for causing a high-frequency electrical...

H - Electricity – 01 – S

Patent

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Details

H01S 3/09 (2006.01) H01S 3/036 (2006.01) H01S 3/0975 (2006.01)

Patent

CA 2266919

L'invention se rapporte au domaine de l'électronique quantique et peut être mise en oeuvre dans les lasers au gaz, tels que les lasers CO2, à l'azote et les lasers à excimères. Le procédé pour l'excitation de décharge haute fréquence dans un laser au gaz consiste à amener, en plus du courant de base de mélange gazeux du laser, dans la zone de sortie du gaz en provenance de l'espace entre les électrodes, un courant supplémentaire de mélange de gaz refroidis électriquement neutres. Ceci permet une augmentation de la fréquence de succession des impulsions. Les particularités du dispositif pour la réalisation du procédé donné permettent d'accroître le coefficient d'efficacité du laser et d'en simplifier la construction.

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