Process and device for gas-phase diffusion coating of...

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

Rate now

  [ 0.00 ] – not rated yet Voters 0   Comments 0

Details

C23C 10/06 (2006.01) C23C 10/02 (2006.01) C23C 10/12 (2006.01) C23C 10/14 (2006.01) C23C 10/16 (2006.01)

Patent

CA 2434211

The invention relates to a method and a device for gas phase diffusion coating of components (3), wherein a component surface (4) which is to be coated is brought into contact with a metal halogenide as a coating gas, forming a diffusion layer having a determined thickness and a determined metal content in wt % in the component surface, starting from a nominal concentration of metal halogenide on the component surface leading to a defined coating duration at a defined coating temperature. For the metal halogenide, a first concentration which is higher than the nominal concentration and at least one second concentration which is lower than the nominal concentration are adjusted on the surface (4) over a first period of time and at least a second period of time. The first and the at least one second period of time are chosen in such a way that the sum thereof is shorter than the coating duration with the nominal concentration.

L'invention concerne un procédé et un dispositif pour le revêtement par diffusion en phase gazeuse de composants métalliques (3). Selon l'invention, une surface de composant à revêtir (4) est mise en contact avec un halogénure métallique en tant que gaz de revêtement, une couche de diffusion d'une épaisseur et d'une teneur en métal de revêtement en pourcentage en poids définies se formant dans la surface du composant. On part d'une concentration nominale de l'halogénure métallique à la surface du composant, qui entraîne une durée de revêtement définie pour une température de revêtement définie. Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce qu'on règle pour l'halogénure métallique à la surface (4) du composant une première concentration supérieure à la concentration nominale pendant une première période et au moins une deuxième concentration inférieure ou égale à la concentration nominale pendant au moins une deuxième période et en ce qu'on sélectionne la première et la deuxième période de façon que leur somme soit inférieure à la durée de revêtement à la concentration nominale.

LandOfFree

Say what you really think

Search LandOfFree.com for Canadian inventors and patents. Rate them and share your experience with other people.

Rating

Process and device for gas-phase diffusion coating of... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.

If you have personal experience with Process and device for gas-phase diffusion coating of..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Process and device for gas-phase diffusion coating of... will most certainly appreciate the feedback.

Rate now

     

Profile ID: LFCA-PAI-O-1672946

  Search
All data on this website is collected from public sources. Our data reflects the most accurate information available at the time of publication.