C - Chemistry – Metallurgy – 10 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
10
G
C10G 5/02 (2006.01) C10L 3/10 (2006.01)
Patent
CA 2543539
A process and system for removing contaminants from a natural gas stream, the process comprising the steps of: (a) contacting part of the natural gas stream as a first gas stream at an elevated temperature with a first adsorbent bed in regeneration mode, to remove contaminants present on the first adsorbent bed, and to obtain a second gas stream that is enriched in contaminants compared to the first gas stream; (b) submitting the second gas stream to a gas/liquid separation step comprising cooling the second gas stream to a temperature such that at least some contaminants begin to condense into a first liquid phase that is rich in contaminants, and separating the first liquid phase from the second gas stream to create a third gas stream; wherein the gas/liquid separation step forms a first gas/liquid separation step, and wherein the process further comprises (c) submitting the third gas stream to a second gas/liquid separation step to obtain a second liquid phase that is rich in contaminants, and a lean gas stream.
L'invention concerne un procédé et un système permettant d'éliminer les contaminants contenus dans un flux de gaz naturel. Ce procédé consiste : (a) à mettre en contact une partie du flux de gaz naturel constituant un premier flux gazeux avec un premier lit absorbant en mode régénération, à une température élevée, de sorte à éliminer les contaminants présents sur le premier lit absorbant, et à obtenir un deuxième flux gazeux enrichi en contaminants par rapport au premier flux gazeux ; (b) à soumettre le deuxième flux gazeux à une étape de séparation gaz/liquide consistant à refroidir ce deuxième flux à une température telle qu'au moins une partie des contaminants commencent à se condenser en une première phase liquide riche en contaminants, et à séparer cette première phase liquide du deuxième flux gazeux pour former un troisième flux gazeux, l'étape de séparation gaz/liquide constituant une première étape de séparation gaz/liquide ; puis (c) à soumettre le troisième flux gazeux à une deuxième étape de séparation gaz/liquide, de sorte à obtenir une deuxième phase liquide riche en contaminants et un flux gazeux à faible teneur en contaminants.
Neumann Klaus Dieter Karl
Rajani Jayantilal Bhagvanji
Shell Canada Limited
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1647169