C - Chemistry – Metallurgy – 25 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
25
C
C25C 3/18 (2006.01)
Patent
CA 2544702
A new method for the electrolytic production of aluminum, using a new electrolyte composition and low temperature operation, is provided. The electrolyte comprises a mixture of aluminum fluoride-potassium fluoride with from about 2 wt. % to 6 wt. % of alumina. The new electrolyte allows for the electrolytical reduction of alumina at temperatures as low as 700~C. The lower temperature allows for the use of inert anodes, and is conducive to the use of wetted cathodes. The new electrolyte mixture has a higher solubility for alumina and remains entirely liquid, even with 5 wt. % of alumina present in the electrolyte during electrolysis. Oxygen (O2) is the only gas generated during alumina electrolysis with the new electrolyte and the inert anodes, thus eliminating the production of greenhouse gases. Anodes and cathodes can be mounted in either a vertical, horizontal, or some other configuration.
Nouveau procédé de production électrolytique d'aluminium utilisant une nouvelle composition d'électrolyte sous basse température. L'électrolyte comprend un mélange de fluorure d'aluminium et de fluorure de potassium avec de 2 à 6 % en poids environ d'alumine. Avec le nouvel électrolyte, il est possible de réduire électrolytiquement l'albumine à de faibles températures de l'ordre de 700 ·C. Cette basse température permet d'utiliser des anodes inertes et favorise l'emploi de cathodes mouillées. Le nouveau mélange électrolytique possède une plus grande solubilité pour l'alumine et reste entièrement liquide, même en présence de 5 % en poids d'alumine dans l'électrolyte pendant l'électrolyse. Avec le nouvel électrolyte et les anodes inertes, seul de l'oxygène (O¿2?) est produit pendant l'électrolyse de l'alumine, ce qui empêche la production de gaz à effet de serre. Les anodes et les cathodes peuvent être montées verticalement, horizontalement ou de toute autre façon.
Boyd R. Davis
Hryn John
Roy Alain
Yang Jianhong
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Davis Boyd R.
Hryn John
Roy Alain
The University Of Chicago
LandOfFree
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