C - Chemistry – Metallurgy – 01 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
G
23/149
C01G 15/00 (2006.01) C22B 3/26 (2006.01) C22B 3/28 (2006.01) C22B 58/00 (2006.01)
Patent
CA 1165534
PRECIS DE LA DIVULGATION: La présente invention concerne un procédé de puri- fication d'une solution de gallium en vue d'obtenir des solutions de chlorure de gallium de très haute pureté. Ce procédé se caractérise en ce que l'on met en contact la solution aqueuse chlorhydrique de gallium avec une phase organique contenant comme agent d'extraction un chlorure d'ammonium quaternaire, on sépare la phase organique de la phase aqueuse, on met en contact la phase organique avec une solution aqueuse chlorhydrique de lavage pour réaliser une opération de lavage sélectif de cette phase organique qui élimine les impuretés restantes, puis on opère le transfert du gallium purifie de la phase organique dans une solution aqueuse et enfin on sépare la phase organique de la phase aqueuse obtenue, la phase aqueuse contenant le chlorure de gallium pur.
391518
Helgorsky Jacques
Leveque Alain
Rhone Poulenc Industries
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-406599