C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 7/08 (2006.01) C07F 7/18 (2006.01) C08G 77/28 (2006.01) C08G 77/38 (2006.01) C08G 77/392 (2006.01)
Patent
CA 2115662
According to a process for preparing organosilicon compounds having having sulphur-containing organic residues, organosilicon compounds made of units having general formula (I) are reacted with sulphite in the presence of water. In the formula (I), R may be the same or different and stand for a monovalent organic residue; R1 may be the same or different and stand for a hydrogen atom or for a monovalent organic residue; R2 may be the same or different and stand for a residue -QX, in which Q stands for a bivalent hydrocarbon residue and X stands for a halogen atom; a equals 0, 1, 2 or 3; b equals 0, 1, 2 or 3 and c equals 0, 1, 2 or 3, provided that the organosilicon compound contains at least one R2 residue per molecule and the sum of a, b and c is less than or equal to 4.
Dans un procédé pour préparer des composés organosiliciés portant des résidus organiques soufrés, des composés organosiliciés constitués d'unités de formule générale (I) réagissent avec du sulfite en présence d'eau. Dans la formule (I), R peut être identique ou différent et représente un résidu organique monovalent; R1 peut être identique ou différent et représente un atome d'hydrogène ou un résidu organique monovalent; R2 peut être identique ou différent et représente un résidu -QX, où Q est un résidu hydrocarboné bivalent et X est un atome d'halogène; a est égal à 0, 1, 2 ou 3; b est égal à 0, 1, 2 ou 3 et c est égal à 0, 1, 2 ou 3, pourvu que le composé organosilicié contienne au moins un résidu R2 par molécule et que la somme de a, b et c soit égale ou inférieure à 4.
Deubzer Bernward
Hager Rudolf
Wolferseder Josef
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Wacker-Chemie Gmbh
LandOfFree
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