C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/30 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01)
Patent
CA 2056910
PRECIS DE LA DIVULGATION Le procédé de dépôt selon l'invention, de type PVD, utilise un four de traitement thermique sous vide à l'intérieur duquel on évapore la substance d'une cible qui constitue une première électrode et on dépose les particules gazeuses ainsi produites sur un substrat porté à un potentiel d'une deuxième électrode, qui est différent de celui de la première électrode. Au cours de ce dépôt, le substrat est porté à une température de traitement comprise entre 800°C et 1200°C, et la cible ainsi que ses organes annexes sont constamment refroidis par un courant de fluide de refroidissement de manière à ce que la matière de la cible demeure solide et que l'évaporation produite à la surface de la cible s'effectue par sublimation. L'invention permet d'améliorer la régularité du dépôt, son ancrage dans le substrat ainsi que le temps de traitement.
Damond Eric
Dervieux Georges
Jacquot Patrick
Innovatique S.a.
Kent & Edgar
LandOfFree
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