C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 7/07 (2006.01) C07C 303/16 (2006.01) C07C 303/44 (2006.01) C07C 309/04 (2006.01) C07C 309/80 (2006.01)
Patent
CA 2242722
Pour éliminer le chlorure de méthanesulfonyle entraîné par l'HCl gazeux sous-produit, on injecte dans le flux gazeux d'HCl une quantité d'eau allant de 0,01 à 20% par rapport à la masse d'HCl à traiter et on abaisse la température à une valeur inférieure ou égale à 15°C. Ce procédé permet de réduire le plus possible la teneur en CMS dans l'HCl gazeux, sans nécessiter la mise en oeuvre de température extrêmement basses ou le recours à des technologies très sophistiquées et coûteuses.
Clair Rene
Ferrigno Marc
Molines Denise
Ollivier Jean
Atofina
Elf Atochem S.a.
Robic
LandOfFree
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