C - Chemistry – Metallurgy – 01 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
G
23/149
C01G 15/00 (2006.01) C22B 58/00 (2006.01)
Patent
CA 1165977
PRECIS DE LA DIVULGATION: La présente invention concerne un procédé de puri- fication de solutions aqueuses acides de gallium en vue d'ob- tenir des solutions de chlorure de gallium de haute pureté. Ce procédé se caractérise en ce que (a) on ajuste, éventuel- lement, la concentration en ions chlorure de la solution de gallium à une valeur comprise entre environ 3,5 et 8 M; (b) on met en contact la solution de gallium avec une résine échangeuse d'ions du type base forte qui fixe le gallium; après lavage éventuel de la résine avec une solution d'acide chlorhydrique de concentration supérieure ou égale à environ 5 M, on élue le gallium de la résine avec de l'eau pour obtenir une solution aqueuse concentrée de chlorure de gallium; (c) on ajuste la concentration en ions chlorure de la solution obtenue à une valeur comprise entre environ 4 et 6 M; (d) on met en contact la solution aqueuse concentrée de gallium avec une phase organique contenant un agent d'extraction du gallium insoluble dans l'eau, de façon à ce que le gallium soit extrait dans la phase organique; on sépare la phase orga- nique de la phase aqueuse; (e) on réalise un lavage sélectif de cette phase organique qui élimine les impuretés restantes; et (f) on opère le transfert du gallium purifie de la phase organique dans une solution aqueuse et enfin on sépare la phase organique de la phase aqueuse contenant le chlorure de gallium pur.
391520
Leveque Alain
Triollier Michel
Rhone Poulenc Industries
Robic Robic & Associes/associates
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-415000