C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 471/04 (2006.01) A61K 31/437 (2006.01) A61P 31/18 (2006.01)
Patent
CA 2612300
The present invention provides compounds of formula (I) wherein Cx represents - CHO, -CH=N-OR3, -CH=N-NR3R4, -CH=N-R5 or -CH(OR3)2; m and n can be present up to four times and the other R radicals can vary from a hydrogen atom to different alkyl groups, halogen, rings or more. These compounds are used in pharmaceutical compositions for the treatment or prevention of AIDS or HIV infection, or for reducing HIV replication.
La présente invention concerne des composés de formule (I), dans laquelle Cx représente -CHO, -CH=N-OR3, -CH=N-NR3R4, -CH=N-R5 ou -CH(OR3)2; m et n peuvent être présents quatre fois au maximum et les autres radicaux R peuvent varier d'un atome d'hydrogène à différents groupes alkyle, halogène, cycles ou autres. Ces composés sont utilisés dans des compositions pharmaceutiques pour traiter ou prévenir le SIDA ou une infection à VIH ou pour diminuer une réplication du VIH.
Herbart Dominik
Perron Valerie
Stranix Brent Richard
Ambrilia Biopharma Inc.
Fasken Martineau Dumoulin Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1576434