C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 495/04 (2006.01) A61K 31/415 (2006.01)
Patent
CA 2109774
Abrégé descriptif L'invention concerne des dérivés de pyrrole de formule générale (I) Image (I) dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, un groupe C1-6 alkyle linéaire ou ramifié, un groupe C3-6 alcényle, un groupe C1-4 alcoxyméthyle, le radical benzyle, un groupe phényle éventuellement substitué par un ou plusieurs atomes d'halogène ou radicaux alkyle, un groupe CO2R dans lequel R représente un radical C1-4 alkyle linéaire ou ramifié, le radical phényle ou le radical benzyle, ou un groupe CONR'R" dans lequel R' et R" représentent chacun, indépendamment l'un de l'autre, un atome d'hydrogène ou un radical C1-4 alkyle linéaire ou ramifié, R2 représenté un atome d'hydrogène ou d'halogène ou un groupe C1-4 alkyle linéaire ou ramifié et R3 représente un groupe 4,5-dihydro-1H-imidazol-2-yle ou 1H-imidazol-4-yle, ainsi que leurs sels d'addition à des acides pharmaceutiquement acceptables. Application en thérapeutique.
Bedoya Zurita Manuel
Del Sol Moreno Gregorio
Diaz Martin Juan Antonio
Jimenez Bargueno Maria Dolores
Maloizel Christian
Swabey Ogilvy Renault
Synthelabo
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1684870