C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
167/300, 260/465
C07C 97/10 (1980.01) A61K 7/00 (1980.01)
Patent
CA 1168659
PRECIS L'invention concerne de nouveaux dérivés de diben- zoylméthane quaternaire répondant à la formule générale: Image dans laquelle R1 et R2 représentent un radical alcoyle ou hydroxyalcoyle inférieur, R3 représente le radical alcoyle ou alcoyloxy inférieur, n est un nombre entier de 0 à 3, X- est un anion dérivé d'un acide minéral ou organique. Les composés selon l'invention présentent de bonnes propriétés filtrantes vis-à-vis des rayonnements U.V et, en particulier, vis-à-vis des rayonnements UV.A, et présentent en outre une excellente solubilité en milieu aqueux, une bonne sta- bilité photochimique et thermique, ainsi qu'une bonne substantivité vis-à-vis de la peau de façon à ne pas être éliminé ou dégradé par la transpiration.
383044
Lang Gerard
Malaval Alain
L'oreal
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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