Quaternized polymers and process for their preparation

C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G

Patent

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402/319, 402/366

C08G 73/02 (2006.01)

Patent

CA 1074497

PRECIS DE LA DIVULGATION: Nouveaux polymères quaternisés choisie dans le groupe constitué par: a) les polymères à base de motifs récurrents représentés par la formule IIA: Image (IIA) dans laquelle A1 représente A, A étant un groupement de formule Image x, y et t étant des nombres entiers pouvant varier de 0 à 11 et tels que la somme (x+y+t) est supérieure ou égale à zéro ou in- férioure à 18, et E et K représentant un atome d'hydrogène ou un radical aliphatique ayant moins de 16 atomes de carbone, ou bien,A1 représente un groupement de formule: - (CH2)n - O - (CH2)n - - (CH2)n - S - (CH2)n - - (CH2)n - S - S - (CH2)n- - (CH2)n - SO - (CH2)n - - (CH2)n - SO2- (CH2)n - n étant un nombre entier égal à 2 ou 3; X ? est un anion dérivé d'un acide minéral ou organique; R'2 est unradical aliphatique ayant de ? ? 20 atomes de carbone, alicyclique our arylaliphat???e contenant au maximum 20 atomes de carbone; B1 représente B, B étant un groupement de formule: Image D et G étant un atome d'hydrogène ou un radical aliphatique ayant moins de 18 atomes de carbone et v, z et u étant des nombres entiers pouvant varier de 0 ? 11, deux d'entre eux pouvant simultanément ?tre ?gaus à zéro, tels que la somme (v+x+u) soit inférieure ? 18, et tels que la somme (v+z+u) soit supérieure ? 1 quand la somme (x+y+t) est égale à zéro, ou bien B1 représente un groupement de formula: Image ou -(CH2)n - O - (CH2)n - ; b) les polymères ? base de motifs récurrents représenté par la formule IIB: Image dans laquella A2 représente A tel que défini précédemment, ou bien A2 représente un groupement de formule: - (CH2)n - O - (CH2)n - - (CH2)n - S - (CH2)n - - (CH2)n - S - S - (CH2)n - - (CH2)n - SO - (CH2)n - ou Image R'3 représentant un radical aliphatique, alicyclique ou arylaliphatique contenant.au maximum 20 atomes de carbone, et n, X et B1 étant définis comme précédemment; c) les polymères à base de motifs récurrents représenté par la formule IIC: (IIC) Image dans laquelle Z représente un atome d'oxygène ou le groupement -CH2-; A3 représente A tel que défini précédemment, ou bien A3 représente -(CH2)n - O - (CH2)n-; X et n sont définis comme précédemment. Les polymères de formules (IIA), (IIB) ou (IIC) présentent dos propriétés cosmétiques intéressantes lorsqu'ils sont introduits dans des compositions cosmétiques appliquées sur les cheveux ou sur la peau. Ils sont particulièrement utilisables, soit à titre d'additif, soit à titre d'ingrédient actif principal, dans des lotions de mise en plis, des lotions traitantes, des crèmes ou des gels coiffants, soit encore a titre d'additif dans des compostions de shampooings, de mises en plis, de permanentes, de teintures, de lotions restructurantes, de lotions traitantes antiséborrhériques, ou de laques pour cheveux.

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