C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 239/95 (2006.01) A61K 31/357 (2006.01) A61K 31/517 (2006.01) A61K 31/5377 (2006.01) A61K 31/541 (2006.01) A61P 17/04 (2006.01) C07D 401/06 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 403/12 (2006.01) C07D 405/12 (2006.01) C07D 409/12 (2006.01) C07D 413/06 (2006.01) C07D 413/12 (2006.01) C07D 417/12 (2006.01) C07D 493/04 (2006.01)
Patent
CA 2483530
An excellent antipruritic drug which functions by a new mechanism. Also provided is a quinazoline derivative represented by the following general formula (1) or a salt thereof: (1) wherein R1 represents hydrogen or alkyl; ring Q represents cyclohexylene or phenylene; A1 and A2 each represents a single bond or alkylene; E represents -NHCO-, etc.; A3 represents a single bond, a divalent (un)saturated aliphatic hydrocarbon group, etc.; R3 represents a noncyclic aliphatic hydrocarbon group, etc.; and R4 and R5 are the same or different and each represents hydrogen, alkyl, etc. The antipruritic drug contains as an active ingredient the derivative or a pharmaceutically acceptable salt of the derivative.
L'invention concerne un excellent médicament antiprurigineux fonctionnant par le biais d'un nouveau mécanisme. L'invention concerne un dérivé de quinazoline de formule (1) ou un sel de celui-ci. Dans cette formule, R?1¿ désigne hydrogène ou alkyle ; l'anneau Q représente cyclohéxylène ou phénylène ; A?1¿ et A?2¿ représentent chacun une liaison unique ou alkylène ; E désigne -NHCO-, etc. ; A?3¿ désigne une liaison unique, un groupe d'hydrocarbures aliphatiques (in)saturés, etc ; R?3¿ désigne un groupe d'hydrocarbures aliphatiques non cycliques, etc ; et R?4¿ et R?5¿ sont les mêmes ou différents, et représentent chacun hydrogène, alkyle, etc. Ce médicament antiprurigineux contient, en tant que principe actif, ledit dérivé ou un sel pharmaceutiquement acceptable de ce dérivé.
Okano Masahiko
Oyama Tatsuya
Fetherstonhaugh & Co.
Nippon Shinyaku Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1800663