C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 215/38 (2006.01) A61K 31/505 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) A61P 37/08 (2006.01) C07D 217/22 (2006.01) C07D 239/84 (2006.01) C07D 239/95 (2006.01) C07D 241/44 (2006.01) C07D 403/04 (2006.01) C07D 403/06 (2006.01) C07D 451/06 (2006.01)
Patent
CA 2657702
Compounds that interact with the histamine H4 receptor, and which may be useful for treating or preventing disorders and conditions mediated by the histamine H4 receptor, e.g. inflammation, are of formula (I) wherein Q is CR1 or N; X is CR2 or N, provided that Q and X are not both N; Y is CR3 or N; Z is CH or N; R1, R2, R3, R4, R5 and R6 are independently H, F, Cl, Br, I, or a hydrocarbon group which optionally contains one or more heteroatoms; and R7 is a heterocyclic radical including one or more N atoms; or a pharmaceutically acceptable salt, ester or solvate thereof.
L'invention concerne des composés qui interagissent avec le récepteur d'histamine H4 et peuvent être utiles pour le traitement ou la prévention de troubles et d'états induits par le récepteur de l'histamine H4, p. ex. l'inflammation. Les composés selon l'invention sont représentés par la formule (I) dans laquelle Q représente CR<SUP>1</SUP> ou N; X représente CR<SUP>2</SUP> ou N, à condition que Q et X ne représentent pas tous les deux N; Y représente CR<SUP>3</SUP> ou N; Z représente CH ou N; R<SUP>1</SUP>, R<SUP>2</SUP>, R<SUP>3</SUP>, R<SUP>4</SUP>, R<SUP>5</SUP> et R<SUP>6</SUP> sont indépendamment H, F, Cl, Br, I ou un groupement hydrocarboné contenant éventuellement un ou plusieurs hétéroatomes; et R7 représente un radical hétérocyclique comprenant un ou plusieurs atomes N; ou un de leurs sels, esters ou solvates pharmaceutiquement acceptables.
de Esch Iwan Jozef Philomena
Leurs Regorius
Smits Rogier Adriaan
Van Lim Herman Dirnawan
Cassan Maclean
Vereniging Voor Christelijk Hoger Onderwijs Wetenschappelijk Ond
LandOfFree
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