C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 215/227 (2006.01) A61K 31/47 (2006.01) A61P 31/04 (2006.01)
Patent
CA 2615901
Use of a compound for the manufacture of a medicament for the treatment of a bacterial infection provided that the bacterial infection is other than a Mycobacterial infection, said compound being a compound of Formula (Ia) or (Ib), a pharmaceutically acceptable acid or base addition salt thereof, a quaternary amine thereof, a stereochemically isomeric form thereof, a tautomeric form thereof or a N-oxide form thereof, wherein R1 is hydrogen, halo, haloalkyl, cyano, hydroxy, Ar, Het, alkyl, alkyloxy, alkylthio, alkyloxyalkyl, alkylthioalkyl, Ar-alkyl or di(Ar)alkyl; p is 1, 2 or 3; R2 is hydrogen; alkyl; hydroxy; mercapto; optionally substituted alkyloxy; alkyloxyalkyloxy; alkylthio; mono or di(alkyl)amino wherein alkyl may optionally be substituted; Ar; Het or a radical of Formula (.IOTA..IOTA.); R3 is alkyl, Ar, Ar-alkyl, Het or Het-alkyl; q is zero, 1, 2, 3 or 4; X is a direct bond or CH2; R4 and R5 each independently are hydrogen, alkyl or benzyl; or R4 and R5 may be taken together including the N to which they are attached; R6 is hydrogen or a radical of Formula (III); R7 is hydrogen, alkyl, Ar or Het; R8 is hydrogen or alkyl; R9 is oxo ; or R8 and R9 together form the radical -CH=CH-N=.
La présente invention décrit l'emploi d'un composé dans la fabrication d'un médicament pour le traitement d'une infection bactérienne, à la condition que ladite infection bactérienne soit différente d'une infection mycobactérienne, ledit composé étant un composé de formule (Ia) ou (Ib), un sel d'addition acide ou basique pharmaceutiquement acceptable dudit composé, une amine quaternaire dudit composé, une forme isomère stéréochimique dudit composé, une forme tautomère ou un N-oxyde dudit composé, où R1 représente un atome d'hydrogène ou d'halogène ou un groupement haloalkyle, cyano, hydroxy, Ar, Het, alkyle, alkyloxy, alkylthio, alkyloxyalkyle, alkylthioalkyle, Ar-alkyle ou di(Ar)alkyle; p est égal à 1, 2, 3; R2 représente un atome d'hydrogène, alkyle; hydroxy, mercapto; éventuellement alkyloxy substitué, alkyloxyalkyloxy, alkylthio, mono- ou di(alkyl)amino où l'alkyle peut éventuellement être substitué; Ar; Het ou un radical de formule II; R3 représente un groupement alkyle, Ar, Ar-alkyle, Het ou Het-alkyle; q est égal à zéro, 1, 2, 3 ou 4; X est une liaison directe ou CH2; R4 et R5 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle ou benzyle; ou R4 et R5 peuvent être joints en renfermant le N auquel ils sont liés; R6 représente un atome d'hydrogène ou un radical de formule III; R7 représente un atome d'hydrogène ou un groupement d'alkyle, Ar ou Het; R8 représente un atome d'hydrogène ou d'alkyke; R9 représente oxo; ou R8 et R9 forment ensemble le radical -CH=CH-N=.
Andries Koenraad Jozef Lodewijk Marcel
Guillemont Jerome Emile Georges
Koul Anil
Lancois David Francis Alain
Pasquier Elisabeth Therese Jeanne
Gowling Lafleur Henderson Llp
Janssen Pharmaceutica N.v.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1933719