C - Chemistry – Metallurgy – 08 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
K
C08K 3/28 (2006.01) C08F 2/46 (2006.01)
Patent
CA 2564622
The present invention relates generally to radiation-curate ink formulations, and particularly, but not by way of limitation, to a family of radiation- curable ink formulations specifically for lithographic printing applications. The inventive ink formulations are based on multifunctional acrylate resins formed by the reaction of acrylate monomers and oligomers with .szlig.-keto esters (e.g., acetoacetates), .beta.-diketones (e.g., 2, 4-pentanedione), .beta.-keto amides (e.g., acetoacetanilide, acetoacetamide), and/or other .szlig.-dicarbonyl compounds that can participate in Michael addition reactions.
La présente invention se rapporte de manière générale à des formulations d'encres pouvant être séchées par exposition à un rayonnement, et plus particulièrement, mais pas exclusivement, à une famille de formulations d'encres pouvant être séchées par exposition à un rayonnement et destinées spécifiquement à des applications d'impression lithographique. Ces formulations d'encres de l'invention sont basées sur des résines acrylates multifonctionnelles formées par réaction de monomères acrylates et d'oligomères avec des .beta.-céto-esters (par exemple, acétoacétates), des .beta.-dicétones (par exemple, 2, 4-pentanedione), des .beta.-céto amides (par exemple, acétoacétanilide, acétoacétamide), et/ou d'autres composés .beta.-dicarbonyle qui peuvent participer à des réactions d'addition de Michael
Hahn Lisa Marie
Narayan-Sarathy Sridevi
Ashland Licensing And Intellectual Property Llc
Gowling Lafleur Henderson Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1404054