C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 101/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/039 (2006.01) G03F 7/075 (2006.01) G03F 7/36 (2006.01) G03F 7/38 (2006.01)
Patent
CA 2431358
A radiation-sensitive composition changing in refractive index which comprises (A) a decomposable compound, (B) a nondecomposable compound having a higher refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation-sensitive decomposer, and (D) a stabilizer. When the composition is irradiated with a radiation through a pattern mask, the ingredients (C) and (A) in the irradiated areas decompose to cause a difference in refractive index between the irradiated areas and the unirradiated areas. Thus, a pattern having different refractive indexes is formed.
La présente invention concerne une composition sensible aux rayonnements, à indice de réfraction variable, qui comprend (A) un composé pouvant être décomposé, (B) un composé ne pouvant pas être décomposé et présentant un indice de réfraction supérieur à celui du composé pouvant être décomposé (A), (C) un agent de décomposition sensible aux rayonnements et (D) un agent de stabilisation. Lorsque la composition est exposée à des rayonnements à travers un masque à motif, les ingrédients (C) et (A) se trouvant dans les zones exposées se décomposent, afin de produire une différence d'indice de réfraction entre les zones exposées et les zones non exposées, ce qui permet d'obtenir un motif présentant différents indices d réfraction.
Bessho Nobuo
Kumano Atsushi
Nishimura Isao
Shimokawa Tsutomu
Yamada Kenji
Jsr Corporation
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1818311