C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
400/5148, 400/61
C08F 273/00 (2006.01) C08F 289/00 (2006.01) C08G 61/12 (2006.01) C08L 65/00 (2006.01) H01B 1/12 (2006.01) H05K 1/09 (2006.01)
Patent
CA 2017274
Disclosed is a radical polymerizable composition comprised of a polymer having a .pi.-electron conjugated structure having repeating units of a mono-substituted or di-substituted isothianaphthene structure, which is represented by the formula [Ia] and/or [Ib]: Image and/or Image wherein R1 and R2 represent hydrogen, C1 - 18 alkoxy group, or -O(CH2CH2O)nCH3 [n: 1 to 4] with the proviso that the case where both R1 and R2 represent hydrogen is excluded, X is an anion, y is from 0.01 to 1, and m is from 5 to 5,000, and a radical polymerizable compound. The radical polymerizable composition has a very stable electroconductivity in air and can be molded into an optional shape.
L'invention porte sur une composition polymérisable par voie radicalaire, renfermant un polymère à structure conjuguée de type électron pi et à unités isothianaphténiques répétées avec mono-substitution ou di-substitution, le tout de formule (Ia) et (ou) (Ib), soit Image et (ou) Image - R1 et R2 représentent de l'hydrogène ou un groupe alcoxy C1-18 ou -O(CH2CH2O)nCH3, avec n = 1 à 4, à la condition que R1 et R2 ne soient pas tous les deux de l'hydrogène, X est un anion, y a une valeur de 0,01 à 1, et m une valeur de 5 à 5000 -, et un composé polymérisable par voie radicalaire. La composition polymérisable par voie radicalaire a une électroconductivité très stable dans l'air et peut être moulée dans la forme voulue.
Ikenoue Yoshiaki
Kobayashi Masao
Otsuka Reiko
Saida Yoshihiro
Ridout & Maybee Llp
Showa Denko K.k.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1507183