H - Electricity – 01 – J
Patent
H - Electricity
01
J
H01J 37/317 (2006.01) H01J 37/302 (2006.01)
Patent
CA 2322966
An electron beam column (or other charged particle beam column) for lithography which exposes a surface to variable shapes in a raster scan. The beam column includes an electron (or ion) source (1204) that generates a charged particle beam, a transfer lens (1206), an upper aperture (1210), an upper deflector (1212), a lower aperture (1214), a lower deflector (1216), magnetic deflection coils (1218), and a beam objective lens (1220). The beam is first shaped as a square in cross section by the upper aperture. The upper deflector changes the direction of the square shaped beam to pass through a specific portion of an opening defined in the lower aperture to shape the beam as desired. The lower aperture defines either a cross shaped opening or four L- shaped openings arranged as corners of a square. The combination of upper and lower apertures enable definition of exterior and interior corners as well as horizontal and vertical edges of a pattern, so that only one flash need be exposed in any one location on the surface. The lower deflector reverses any change in direction imposed by the upper deflector and further applies a retrograde scan to counteract a movement of the beam by the magnetic coils in a raster scan. The retrograde scan ensures that an exposure exposes an intended target area.
L'invention concerne une colonne à faisceau électronique (ou tout autre colonne à faisceau de particules chargées) pour la lithographie, qui expose une surface à des formes variables en balayage tramé. Ladite colonne comporte une source d'électrons (ou d'ions) (1204) qui génère un faisceau de particules chargées, une lentille de transfert (1206), une ouverture supérieure (1210), un déflecteur supérieur (1212), une ouverture inférieure (1214), un déflecteur inférieur (1216), des bobines de déviation magnétiques (1218) et un objectif (1220) pour faisceau. Le faisceau est d'abord mis en forme par l'ouverture supérieure, de sorte que sa section soit carrée. Le déflecteur supérieur modifie la direction du faisceau de forme carrée, de manière qu'il passe par une partie spécifique d'une ouverture définie dans l'ouverture inférieure et qu'il prenne la forme voulue. L'ouverture inférieure définit, soit une ouverture cruciforme, soit des ouvertures en L disposées comme les angles d'un carré. La combinaison des ouvertures supérieure et inférieure permet la définition des angles extérieurs et intérieurs ainsi que les bords horizontaux et verticaux d'un motif, de manière que seulement un flash soit nécessaire dans un endroit de la surface, quel qu'il soit, pour l'exposition. Le déflecteur inférieur inverse tout changement de direction imposé par le déflecteur supérieur et applique également un balayage rétrograde pour contrecarrer un mouvement du faisceau induit par les bobines magnétiques dans un balayage tramé. Le balayage rétrograde permet l'exposition d'une zone cible prédéterminée.
Rishton Stephen A.
Sagle Allan L.
Varner Jeffrey K.
Veneklasen Lee H.
Wang Weidong
Etec Systems Inc.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
LandOfFree
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