C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/22 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) H01J 37/32 (2006.01)
Patent
CA 2188799
A rectangular vacuum-arc plasma source and associated apparatus for generating and di- recting a stream of plasma containing an ioz- ized vapor of a cathode material (30) toward a substrate (44) by vacuum arc evaporation of a rectangular planar cathode (32) mounted in a rectangular plasma duct (34). The rectangular duct (34) conducts the plasma from the cathode (31) to the substrate region (44), while inter- cepting the molten droplets of cathode material (30) also generated by the arc. Magnets (46, 48, 40) control the arc motion on the cathode sur- face (33) while simultaneously generating the magnetic field which guides the plasma through the duct (34). Benefits of a filtered cathodic arc (fully ionized vapor stream, elimination of splattered droplets) are combined with the bon- efits of a rectangular source (uniform evapora- tion from the source and uniform deposition on the substrate using linear motion). The rect- angular source may be extended indefinitely in length, thus allowing coating or ion implanta- tion on large or long substrates.
Une source rectangulaire de plasma à arc sous vide et l'équipement associé permettant de générer et de diriger vers un substrat (44) un flux de plasma contenant de la vapeur ionisée provenant de la matière d'une cathode (30) utilisent le principe de l'évaporation produite par un arc sous vide d'une cathode plane rectangulaire (32) montée dans un conduit à plasma rectangulaire (34). Le conduit rectangulaire (34) conduit le plasma de la cathode (31) vers la région de substrat (44), tout en interceptant les gouttelettes fondues de la matière de cathode (30) également produites par l'arc. Des aimants (46, 48, 40) dirigent le mouvement de l'arc sur la surface de cathode (33) tout en créant simultanément un champ magnétique guidant le plasma dans le conduit (34). Les avantages de l'arc cathodique filtré (flux de vapeur totalement ionisée, élimination des éclaboussures de gouttelettes) s'ajoutent aux avantages de la forme rectangulaire de la source (évaporation uniforme à partir de la source et dépôt uniforme sur le substrat en raison du mouvement linéaire). La longueur de la source rectangulaire peut être étendue indéfiniment, ce qui permet de faire un revêtement ou une implantation ionique sur des substrat longs ou de grandes dimensions.
Smart & Biggar
Vapor Technologies Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1659129