Reduced pour point surfactants

Details Reduced pour point surfactants Reduced pour point surfactants

C - Chemistry, Metallurgy

08

K

C08K 5/053 (2006.01) C08K 5/42 (2006.01)

Patent

CA 2387565

Reduced pour point ethylene oxide-propylene oxide block copolymer surfactants, pour point depressants for reducing the pour point of such surfactants, and a process for preparing such surfactants, wherein the reduced pour point is achieved without adversely affecting the properties or structure of the parent ethylene oxide-propylene oxide block copolymer surfactant or contributing to the formation of a hazy product. According to the present invention, the pour point of ethylene oxide-propylene oxide block copolymer surfactants may be reduced by mixing a parent ethylene oxide-propylene oxide block copolymer surfactant with a pour point depressant comprising a low molecular weight glycol, water, and a dialkyl sulfosuccinate.

L'invention porte sur des tensioactifs de copolymères séquencés oxyde d'éthylène-oxyde de propylène à point d'écoulement réduit, sur des améliorants de point d'écoulement destinés à réduire le point d'écoulement de ces tensioactifs et sur un procédé de préparation de ces tensioactifs. On obtient un point d'écoulement réduit sans porter atteinte aux propriétés ou à la structure du tensioactif parent du copolymère séquencé oxyde d'éthylène-oxyde de propylène ou sans que cela contribue à la formation d'un produit nocif. Selon cette invention, il est possible de réduire le point d'écoulement de tensioactifs de copolymères séquencés oxyde d'éthylène-oxyde de propylène en mélangeant un tensioactif parent de copolymères séquencés oxyde d'éthylène-oxyde de propylène avec un améliorant comprenant un glycol de faible poids moléculaire, de l'eau et un sulfosuccinate de dialkyle.

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