G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/213 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01) H01L 21/268 (2006.01)
Patent
CA 2222109
An illumination system for a scanning lithography system used in the manufacture of semiconductor devices having a multiplex array or multi-image array resulting in pattern noise that is reduced by a spatially frequency modulated multiplex array or frequency modulating the pulse rate of a pulsed laser source. A pulsed laser source is used to illuminate a reticle containing a pattern thereon to be reproduced onto a semiconductor. An illumination system using a multiplex array or multi-image array to obtain macro uniformity of an illumination slot or field introduces micro non-uniformity that results in undesirable pattern noise or fixed pattern noise resulting in undesirable imaging properties. The undesirable effects of the pattern noise are eliminated or substantially reduced by spatially modulating the multiplex array in a scanning direction so that the periodic pattern has a linear magnification dependent on position. In another embodiment the pulse rate of the pulsed laser source is frequency modulated. The present invention improves linewidth control, linewidth variation, and edge roughness.
L'invention est un dispositif d'éclairage pour système de lithographie à balayage utilisé dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteur. Le dispositif de l'invention comporte un réseau multiplex ou un réseau multi-image dans lequel le parasitage des configurations est réduit par une modulation spatiale du réseau ou par une modulation de fréquence appliquée au débit d'impulsions du laser d'éclairage. Un laser pulsé est utilisé pour éclairer un réticule portant une configuration à reproduire sur un semi-conducteur. Un dispositif d'éclairage utilisant un réseau multiplex ou un réseau multi-image pour obtenir une macro-uniformité dans une fenêtre ou un champ d'éclairage introduit une certaine micro-non-uniformité qui parasite la configuration et donne des caractéristiques d'imagerie indésirables. Ce parasitage est éliminé ou substantiellement réduit par une modulation spatiale du réseau multiplex dans la direction du balayage de façon à réaliser un grossissement linéaire de la configuration périodique qui dépend de la position. Dans une autre concrétisation de l'invention, le débit des impulsions du laser d'éclairage est modulé en fréquence. La présente invention permet de mieux contrôler la largeur des traits et en limite les variations ainsi que les irrégularités des bords.
Osler Hoskin & Harcourt Llp
Svg Lithography Systems Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1798755