H - Electricity – 01 – L
Patent
H - Electricity
01
L
H01L 21/311 (2006.01) B08B 7/00 (2006.01) G03F 7/42 (2006.01) H01L 21/306 (2006.01) H01L 21/3213 (2006.01)
Patent
CA 2387334
A method of removing photoresist and residue from a substrate begins by maintaining supercritical carbon dioxide, an amine, and a solvent in contact with the substrate so that the amine and the solvent at least partially dissolve the photoresist and the residue. Preferably, the amine is a tertiary amine. Preferably, the solvent is selected from the group consisting of DMSO, EC, NMP, acetyl acetone, BLO, acetic acid, DMAC, PC, and a mixture thereof. Next, the photoresist and the residue are removed from the vicinity of the substrate. Preferably, the method continues with a rinsing step in which the substrate is rinsed in the supercritical carbon dioxide and a rinse agent. Preferably, the rinse agent is selected from the group consisting of water, alcohol, a mixture thereof, and acetone. In an alternative embodiment, the amine and the solvent are replaced with an aqueous fluoride.
Ce procédé d'enlèvement d'une résine photosensible et de résidus à partir d'un substrat consiste d'abord à maintenir en contact avec le substrat, un dioxyde de carbone supercritique, une amine et un solvant, de façon que l'amine et le solvant dissolvent au moins partiellement la résine photosensible et les résidus. De préférence, l'amine est une amine tertiaire et le solvant est choisi dans le groupe constitué par diméthylsulfoxyde, carbonate d'éthylène, N-méthyl-2-pyrrolidone, acétylacétone, butyrolactone, acide acétique, N-N'-diméthylacétamide, carbonate de propylène, ou un mélange de ceux-ci. Le procédé consiste ensuite à enlever du voisinage du substrat, la résine photosensible et les résidus. De préférence, le procédé comporte alors une étape de rinçage consistant à rincer le substrat dans le dioxyde de carbone supercritique et dans un agent de rinçage, lequel est choisi dans le groupe constitué par de l'eau, de l'alcool, un mélange de ceux-ci, ou de l'acétone. Dans un autre mode de réalisation, on remplace l'amine et le solvant par un fluorure aqueux.
Biberger Maximilian A.
Mullee William H.
Schilling Paul E.
Long And Cameron
Tokyo Electron Limited
LandOfFree
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