Replication tools and related fabrication methods and apparatus

G - Physics – 03 – F

Patent

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Details

G03F 1/00 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) G11B 7/26 (2006.01)

Patent

CA 2661767

Durable replication tools are disclosed for replication of relief patterns in desired media, for example in optical recording or data storage media. Methods of making such durable replication tools are disclosed, including recording and developing a relief pattern on a selected surface of a support cylinder, creating a durable layer with a complementary relief replica of the pattern, separating the durable layer from the support cylinder. Apparatus are disclosed for fabricating such replication tools, including systems and apparatus for recording a desired relief pattern on a surface of a support cylinder. Also disclosed are electro deposition cells for forming a durable tool sleeve having a desired relief pattern. The replication tool relief features may have critical dimensions down to the micron and nanometer regime.

L'invention concerne des outils de reproduction durables pour reproduire des motifs en relief sur un support souhaité, par exemple sur un enregistrement optique ou un support de stockage de données. Des procédés de fabrication de tels outils de reproduction durables sont décrits, dont l'enregistrement et le développement d'un motif en relief sur une surface sélectionnée d'un cylindre de support, la création d'une couche durable munie d'une réplique complémentaire en relief du motif, la séparation de la couche durable du cylindre de support. Des dispositifs pour fabriquer de tels outils de reproduction sont décrits, y compris des systèmes et des dispositifs pour enregistrer un motif en relief souhaité sur une surface d'un cylindre de support. Des cellules d'électrodéposition pour former un manchon d'outil durable muni d'un motif en relief souhaité sont également décrites. Les caractéristiques de relief de l'outil de reproduction peuvent être de dimensions critiques inférieures allant jusqu'au micron et au nanomètre.

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