A - Human Necessities – 61 – M
Patent
A - Human Necessities
61
M
A61M 16/06 (2006.01)
Patent
CA 2667889
Provided is a breathing mask system, which can relieve or absorb, when worn, even such a force as might otherwise be generated to shift a mask cushion laterally by a user having a moved head. The breathing mask system comprises a mask cushion for covering a nose, a nose and a mouth, or a face entirely, a first frame connected to the mask cushion and adapted to be fed with a breathing positive-pressure gas from breathing positive-pressure gas feeding means, and a second frame connected to a head gear strap. The breathing mask system is characterized in that the mask cushion is arranged on the face side of the first frame, in that the firstframe is arranged on the face side of the second frame, in that a slide face is formed on at least one of the side of the first frame to confront the second frame and the side of the second frame to confront the first frame, and in that the first frame and the second frame are connected in such a state that they can slide along the slide face.
L'invention concerne un système de masque respiratoire protecteur, lequel peut atténuer ou absorber, lorsqu'il est porté, même une force telle que celle qui serait autrement générée pour déplacer le coussin du masque latéralement par un utilisateur ayant une tête déplacée. Le système de masque respiratoire protecteur comprend un coussin de masque servant à recouvrir le nez, le nez et la bouche ou le visage entier, une première structure reliée au coussin de masque et conçue pour être alimentée avec un gaz respiratoire sous une pression positive provenant de moyens d'alimentation en gaz respiratoire sous une pression positive et une seconde structure reliée à une sangle de casque. Le système de masque respiratoire protecteur est caractérisé en ce que le coussin de masque est disposé sur la face avant de la première structure, en ce que la première structure est disposée sur la face avant de la seconde structure, en ce qu'une surface de glissement est formée sur au moins l'un du côté de la première structure devant être en contact avec la seconde structure et du côté de la seconde structure devant être en contact avec la première structure et en ce que la première structure et la seconde structure sont reliées de façon à ce qu'elles puissent glisser le long de la surface de glissement.
Chin Tongoh
Okayama Takamitsu
Omura Keiko
Takishita Masahide
Borden Ladner Gervais Llp
Teijin Pharma Limited
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1827708