G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/20 (2006.01)
Patent
CA 2215852
A small field scanning photolithography system (100) uses opposing motion of a reticle (120) and a blank (160) to compensate for image reversal by a projection system (170) such as a conventional Wynne-Dyson optical system which forms a reverted image (162) on a blank. The reticle (120) has a reverted pattern (122). During scanning, reticle (120) moves along a reverted axis in a direction opposite the direction in which blank (160) moves. The opposing motions can either expose a stripe on the bland or index the reticle and blank for exposure of a next stripe. In one embodiment of the invention, reticle (120) and blank (160) are on independently movable precision air bearing stages (220, 260). Typically, movement of blank (160) and reticle (120) are equal perpendicular the reverted axis and opposite along the reverted axis. The stages (220, 260) can move reticle (120) and blank (160) different amounts to correct for shrinkage and temperature changes which cause the size of reticle (120) and blank (160) to differ.
Système photolithographique (100) à balayage de faible champ utilisant le mouvement opposé d'un réticule (120) et d'une ébauche (160) pour compenser l'inversion d'image d'un système de projection (170) tel qu'un système optique classique de Wynne-Dyson qui forme une image inversée (162) sur une ébauche. Le réticule (120) présente un motif inversé (122). Au cours du balayage, le réticule (120) se déplace le long d'un axe inversé, dans un sens opposé au sens dans lequel l'ébauche (160) se déplace. Les mouvements opposés peuvent soit exposer une bande sur l'ébauche, soit faire une marque sur le réticule et l'ébauche pour l'exposition d'une bande suivante. Selon un mode de réalisation, le réticule (120) et l'ébauche (160) reposent sur des paliers d'air (220, 260) de précision se déplaçant indépendamment. En général, le mouvement de l'ébauche (160) et celui du réticule (120) sont égaux perpendiculairement à l'axe inversé et sont contraires le long de l'axe inversé. Les paliers (220, 260) peuvent déplacer le réticule (120) et l'ébauche (160) selon différentes mesures, de manière à corriger le rétrécissement et les fluctuations de température qui modifient les dimensions du réticule (120) et de l'ébauche (160).
Allen Paul C.
Thomas Timothy N.
Etec Systems Inc.
Smart & Biggar
LandOfFree
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