G - Physics – 02 – F
Patent
G - Physics
02
F
G02F 1/1339 (2006.01) C08F 299/02 (2006.01) C09K 3/10 (2006.01)
Patent
CA 2525178
A sealant for liquid crystals which is extremely less apt to contaminate liquid crystals and has high adhesion strength. It is characterized by comprising as essential ingredients (a) a radiation-curable resin represented by the general formula (1), (b) a photopolymerization initiator, and (c) an inorganic filler having an average particle diameter of 3 ~m or smaller. [Chemical Formula 1] (In the formula, R1 represents hydrogen or methyl; R2 represents hydrogen, halogeno, hydroxy, C1-10 monovalent alkyl which is linear, branched, or cyclic, or C1-10 alkoxy; m is an integer of 1 to 4 and the m's may be the same or different; R3 represents hydrogen or methyl; and n, which indicates the number of repeating units, is a positive number in the range of 0 to 20.)
L'invention concerne un agent de scellement pour cristaux liquides beaucoup moins susceptible de contaminer les cristaux liquides et présentant une grande force d'adhésion. Il se caractérise en ce qu'il comprend comme ingrédients essentiels (a) une résine durcissable par rayonnements représentée par la formule générale (1), (b) un activateur de photopolymérisation, et (c) une charge inorganique possédant un diamètre de particule moyen de 3 µm ou moins. [Formule chimique 1] (dans laquelle R?1¿ représente hydrogène ou méthyle, R?2¿ représente hydrogène, halogéno, hydroxy, un alkyle C¿1-10? monovalent linéaire, ramifié ou cyclique, ou un alkoxy C¿1-10?, m est un entier de 1 à 4, les m pouvant être identiques ou différents, R?3¿ représente hydrogène ou méthyle, et n, qui indique le nombre d'unités de répétition, est un nombre positif de 0 à 20).
Asano Toyofumi
Hirano Masahiro
Ichimura Sumio
Imaizumi Masahiro
Koyanagi Hiroo
Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1526715