C - Chemistry – Metallurgy – 08 – L
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
L
C08L 101/00 (2006.01) C08J 3/02 (2006.01) C08J 3/20 (2006.01) C08K 3/36 (2006.01)
Patent
CA 2442369
The invention relates to a silicon dioxide dispersion that comprises a) an outer flowable phase containing a1) polymerizable monomers, oligomers and/or prepolymers that can be converted to polymers by non-radical reaction; and/or a2) polymers, b) a disperse phase containing amorphous silicon dioxide. The inventive dispersion is characterized in that the average particle size dmax of the silicon dioxide as measured by small angle neutron scattering (SANS) is between 3 and 50 nm at a maximum half-width of the distribution curve of 1.5 dmax. Such a silicon dioxide dispersion can be easily manufactured even at higher concentrations of the disperse phase and can be used to produce polymer materials that have advantageous properties, especially advantageous mechanical properties.
L'invention concerne une dispersion d'oxyde de silicium qui contient: (a) une phase liquide extérieure comprenant: (a1) des monomères, des oligomères et/ou des prépolymères polymérisables qui peuvent être transformés en polymères par conversion non radicalaire, et/ou (a2) des polymères; et (b) une phase dispersée contenant de l'oxyde de silicium amorphe. Cette dispersion se caractérise en ce que la taille de particule moyenne d¿max? de l'oxyde de silicium, mesurée selon le procédé SANS, est comprise entre 3 et 50 nm pour une largeur de valeur moyenne de la courbe de distribution de 1,5 d¿max?. Une telle dispersion d'oxyde de silicium peut être, même à des concentrations élevées de la phase dispersée, facilement travaillée et l'on peut, à partir de celle-ci, produire des matériaux polymères offrant des caractéristiques, en particulier des caractéristiques mécaniques, avantageuses.
Adam Johannes
Adebahr Thorsten
Eger Christian
Pyrlik Manfred
Roscher Christof
Hanse Chemie Ag
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
Silicon dioxide dispersion does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Silicon dioxide dispersion, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Silicon dioxide dispersion will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1710914