C - Chemistry – Metallurgy – 09 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
D
C09D 183/10 (2006.01) C08G 18/61 (2006.01) C09D 151/08 (2006.01) C09D 153/00 (2006.01) C09D 175/00 (2006.01)
Patent
CA 2295527
There is provided a block, segmented or graft copolymer having p olyorganosiloxane segments and self-associating hard segments, which copolymer is capable of forming a solid, generally non-tacky release coating without the requirement of curing. The release coating comprises the polyorganosiloxane copolymer admixed with an MQ resin wherein the amount of MQ resin is generally between 1 and 30 weight percent of the polyorganosiloxane content, preferably 1 to 20 weight percent. The MQ resin modifies the copolymer release material to have a higher release than the copolymer itself, generally at least 10 percent and preferably at least 20 percent up to 50 percent or higher with the re-adhesion values decreasing by 50 percent or less, preferably 40 percent or less.
L'invention concerne un copolymère séquencé, segmenté ou greffé, comprenant des segments de polyorganosiloxane et des segments à association spontanée. Ce copolymère est capable de former, sans cuisson, un revêtement anti-adhésif solide, généralement non collant. Le revêtement anti-adhésif renferme le copolymère de polyorganosiloxane mélangé à une résine MQ, la quantité de résine étant généralement comprise entre 1 et 30 % en poids de la teneur en polyorganosiloxane, de préférence entre 1 et 20 %. La résine MQ modifie le matériau anti-adhésif de façon à lui donner une aptitude au décollement supérieure à celle du copolymère lui-même, généralement égale à au moins 10 %, et de préférence comprise entre 20 % au moins et 50 % ou au-delà, les valeurs de recollement étant abaissées de 50 % ou moins, de préférence de 40 % ou moins.
Bany Stephen W.
Kinning David J.
Seth Jayshree
Minnesota Mining And Manufacturing Company
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1350223