C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
01
B
C01B 31/06 (2006.01) B03B 5/28 (2006.01) B03B 5/62 (2006.01) B03B 5/66 (2006.01) C09K 3/14 (2006.01)
Patent
CA 2416522
A single crystal fine diamond powder prepared by ultrafine grinding, followed by precise classification, of a single crystal diamond synthesized under a static ultrahigh pressure, characterized in that it has a D50 value for particle diameter of 120 nm or less, and the ratios of D10 value and D90 values for particle diameter to a D50 value for particle diameter are 50 % or more and 200 % or less, respectively; and a method for producing the fine diamond powder. The fine diamond powder has a narrow particle size distribution and is suitable for use in ultraprecise polishing of a hard material of general use, ultraprecise polishing of a composite material from those having different values of hardness, such as low PTR polishing of a thin film type magnetic head, and other precise workings.
L'invention porte sur une poudre fine de diamant monocristalline préparée par meulage ultrafin puis tri précis de cristaux monocristallins de diamant synthétisés sous une pression ultra haute. Les particules de ladite poudre présentent une valeur de D50 pour des diamètres de 120 nm ou moins et des valeurs de D10 et D90 pour des particules d'un diamètre respectivement égal à 50 % et 200 % de celui des particules de valeur D50. L'invention porte également sur son procédé de préparation. La poudre, dont les particules présentent une faible distribution en taille, est adaptée au polissage ultraprécis de matériaux durs d'emploi général, et au polissage ultraprécis de matériaux composites à plusieurs niveaux dureté tel que le polissage à faible PTR de têtes magnétiques à couche mince, ou autres travaux de précision. Fig 1 1 diamètre particules 2 fréquence [ %] 3 cumulatif [ %]
Ishizuka Hiroshi
Ohshima Ryuji
Saito Nobuyuki
Sato Ryouichi
Yamanaka Hiroshi
LandOfFree
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