Solid state uv laser

G - Physics – 02 – F

Patent

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G02F 1/35 (2006.01) G02F 1/355 (2006.01) G02F 2/02 (2006.01) A61B 18/20 (2006.01) A61C 1/00 (2006.01) A61F 9/01 (2006.01) G02F 1/37 (2006.01)

Patent

CA 2294885

The present invention provides a method and apparatus (10) for ablating material, the method including (a) directing a laser beam (14) through a frequency doubling compound (16); (b) then directing the beam through plurality of frequency converting compounds (20, 24); (c) then directing the beam through a beam separating system (30); and (d) directing the beam or a portion of the beam onto an area of the material to ablate the material, wherein the frequency converting compounds include a CLBO crystal. The apparatus includes a laser source (12) for providing a laser beam (14) of infra-red light, first frequency doubling means (20) for doubling the frequency of the infra-red beam, beam conversion means (24) for converting the infra-red beam into an ultra-violet beam (including a second frequency doubling means for redoubling the frequency to produce a twice doubled frequency beam and a fifth harmonic frequency mixing means for mixing the twice frequency doubled beam with the infra-red beam to produce an ultra- violet fifth harmonic of the infra-red beam to produce an ultra-violet fifth harmonic of the infra-red beam), a beam separating system (30) for separating the ultra-violet harmonic, and a laser delivery system (32) for delivering the ultra-violet harmonic to the material, wherein the apparatus is arranged to direct the infra-red beam (14) through the first frequency doubling means (20) and the beam conversion means (24), and to direct light from the beam conversion means (24) to the beam separating system (30) and then to laser delivery system (32) and the fifth harmonic frequency mixing means or the second frequency doubling means (24) includes a CLBO crystal.

L'invention concerne un procédé et un appareil (10) pour l'ablation de matière. Ledit procédé consiste (a) à diriger un faisceau laser (14) à travers une unité de doublage de fréquence (16), (b) à diriger ensuite le faisceau à travers plusieurs unités de conversion de fréquence (20, 24), (c) à diriger le faisceau à travers un système de division de faisceau (30); (d) à diriger le faisceau ou une partie de celui-ci sur une zone de ladite matière en vue de son ablation, les unités de conversion de fréquence comprenant un cristal CLBO. Ledit appareil comprend une source laser (12) qui produit un faisceau laser (14) de lumière infrarouge, une première unité de doublage de fréquence (20) pour le doublage de la fréquence du faisceau infrarouge, un moyen de conversion de faisceau (24) pour convertir le faisceau infrarouge en un faisceau ultraviolet (comprenant une deuxième unité de doublage de fréquence pour doubler la fréquence une deuxième fois, de sorte qu'un faisceau à fréquence doublée deux fois soit produit, et un moyen mélangeur d'harmonique 5 pour mélanger le faisceau à fréquence doublée deux fois au faisceau infrarouge de pour produire une harmonique 5 ultraviolette du faisceau infrarouge). Ledit appareil comprend également un système de division de faisceau (30) pour séparer l'harmonique ultraviolette, et un système de production de laser (32) pour envoyer l'harmonique ultraviolette à la matière, ledit appareil étant conçu pour diriger le faisceau infrarouge (14) à travers le premier moyen de doublage de fréquence (20) et le moyen de conversion de fréquence (24), et pour diriger la lumière provenant du moyen de conversion de faisceau (24) vers le système de séparation de faisceau (30) et ensuite vers le système de production de laser (32): De plus, le moyen mélangeur d'harmonique 5 ou le deuxième moyen de doublage de fréquence (24) comporte un cristal CLBO.

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