G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 6/136 (2006.01) G02B 6/122 (2006.01) G02B 6/13 (2006.01) G02B 6/132 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/075 (2006.01) G03F 7/26 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G03F 7/32 (2006.01)
Patent
CA 2218273
The process for fabricating a ridge waveguide on a substrate uses a photosensitive sol-gel glass material prepared, according to a first embodiment, by mixing methacryloxypropyltrimethoxysilane (H2C=C(CH3)CO2(CH2)3Si(OCH3)3) and methacrylic acid (H2C=C(CH3)COOH) or, according to a second embodiment, by mixing methacryloxypropyltrimethoxysilane (H2C=C(CH3)CO2)CH2)3Si(OCH3)3) with bis(s-butoxy)aluminoxytriethoxysilane. A thick film of photosensitive sol-gel glass material is first dip coated on at least a portion of the substrate. A photomask is applied to the film of photosensitive sol-gel glass material, and this sol-gel material is exposed to ultraviolet radiation through the opening(s) of the photomask to render a portion of the film insoluble to a given solvent and thereby imprint the ridge waveguide in that film. The thick film is then soaked in this solvent, for example n-propanol to dissolve the unexposed portion of the sol-gel film and leave on the substrate the exposed film portion and therefore the ridge waveguide. The ridge waveguide is heat cured and the heat cured ridge waveguide is covered with a cladding layer.
Ce procédé de fabrication d'un guide d'ondes à nervures sur un substrat comprend l'utilisation d'une matière vitreuse sol-gel photosensible, préparée, selon une première application, en mélangeant du méthacryloxypropyltriméthoxysilane (H2C=C(CH3)CO2(CH2)3Si(OCH3)3) et de l'acide méthacrylique (H2C=C(CH3)COOH) ou, selon une deuxième application, en mélangeant du méthacryloxypropyltriméthoxysilane (H2C=C(CH3)CO2)CH2)3Si(OCH3)3) avec du bis(s-butoxy)aluminoxytriéthoxysilane. On enduit par trempage au moins une partie du substrat d'un film épais de matière vitreuse sol-gel photosensible. On applique ensuite un masque photographique sur le film de matière vitreuse sol-gel photosensible et on expose ce dernier à un rayonnement ultraviolet, par l'intermédiaire des ouvertures laissées par le masque photographique, afin de rendre une partie du film insoluble dans un solvant donné et ainsi de graver le guide d'ondes à nervures dans ce film. Le film épais est ensuite plongé dans ce solvant, par exemple du n-propanol, afin de dissoudre la partie non exposée du film sol-gel et de laisser sur le substrat la partie du film exposée et donc le guide d'ondes à nervures. Le guide d'ondes à nervures est durci à la chaleur, puis recouvert d'une couche de métallisation.
Andrews Mark P.
Fardad M. Amir
Iraj Najafi S.
Andrews Mark P.
Fardad M. Amir
Goudreau Gage Dubuc
Iraj Najafi S.
Mcgill University-The Royal Institution For The Advancement Of L
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