G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/20 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01)
Patent
CA 2077237
In an SOR exposure system for transferring patterns on masks to semiconductor wafers by using SOR light reflected by an X-ray reflecting mirror, a first shutter device for shielding at least .gamma. rays and a second shutter device for shielding X-rays are provided between the SOR ring and the mirror inside a beam port, and an exposure adjustment device for adjusting the amount of exposure when a circuit pattern on a mask is transferred to a wafer is provided between the mirror and the wafer. As a result, the human body can be protected against radiation rays, such as gamma rays, generated from the SOR ring when electrons are implanted thereto or when the SOR ring is stopped. Damage to the X-ray reflecting mirror caused by radiation rays is reduced, and stable reflectance of the mirror can be obtained. Maintenance of the SOR exposure system is also made easier.
L'invention est un système d'exposition servant à transférer sur des plaquettes de semi-conducteur des configurations construites sur des masques en utilisant une lumière réfléchie par un miroir réfléchissant les rayons X, un premier obturateur servant de blindage contre les rayons gamma au moins et un second obturateur de blindage contre les rayons X monté entre l'anneau du système et un miroir interne, et un dispositif servant à ajuster l'exposition quand une configuration de circuit construite sur un masque est transférée sur une plaquette est monté entre le miroir et cette plaquette. De la sorte, le corps humain peut être protégé contre les radiations, telles que les rayons gamma, qui sont produites par l'anneau quand les électrons y sont injectés ou quand cet anneau est mis hors fonction. Les dommages causés par les radiations au miroir réfléchissant les rayons X sont réduits et on peut stabiliser la réflectance du miroir. De plus, la maintenance du système d'exposition de l'invention est facilitée.
Amemiya Mitsuaki
Mori Makiko
Ozawa Kunitaka
Canon Kabushiki Kaisha
Ridout & Maybee Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1369166