Source-to-sample distance independent efficiency technique...

G - Physics – 21 – K

Patent

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G21K 1/02 (2006.01) G01N 23/20 (2006.01) G01N 23/223 (2006.01) G21K 1/10 (2006.01)

Patent

CA 2211062

A technique to make the detection efficiency, in XRF systems, less dependent on the source-to-sample distance is disclosed. It is shown that this dependence can be made more constant within a large range of distances if a properly calculated annular mask is used. The calculations for this mask were made using the Monte Carlo method to compute the response curve of a full transmission elemental annulus with variable radius, and a linear programming Simplex method to optimize the uniformity of the response for a combination of those elemental annuluses. Experimental results (for Ca, Ti, V and Zr), in good agreement with the calculated ones, are presented and show that constant efficiency values within ~5% can be obtained when the sample distance varies from 3 to 12 mm. However, peak absolute efficiencies are then reduced by about a factor 5.

Technique rendant l'efficacité de la détection au moyen de systèmes par fluorescence X moins tributaire de l'éloignement de la source par rapport à l'échantillon. Il est démontré que cette dépendance peut devenir plus constante sur une large gamme de distances si un masque annulaire adéquat est utilisé. Les calculs relatifs au masque sont effectués en utilisant la méthode de Monte Carlo afin d'établir la courbe de réponses d'un anneau métallique à transmission complète dont le rayon est variable, et une méthode du simplexe pour la programmation linéaire afin d'optimiser l'uniformité de la réponse pour une combinaison de ces anneaux métalliques. Les résultats expérimentaux (pour le Ca, le Ti, le V et le Zr), qui concordent avec les résultats calculés, sont présentés et indiquent que des valeurs de rendement constant se situant à plus ou moins 5 % peuvent être obtenues lorsque l'éloignement de l'échantillon varie de 3 à 12 mm. Par contre, les rendements absolus maximaux sont alors réduits d'un facteur d'environ 5.

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