C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 14/34 (2006.01) B22F 9/08 (2006.01) C22C 5/04 (2006.01) C22C 9/00 (2006.01) C22C 16/00 (2006.01) C22C 19/03 (2006.01) C22C 19/07 (2006.01) C22C 38/00 (2006.01)
Patent
CA 2584566
A sputtering target for production of metallic glass film, characterized in that it has a structure obtained by sintering of an atomized powder of <= 50 µm average particle diameter having a composition of three or more elements whose main component (component of greatest atomic %) is at least one metal element selected from among Pd, Zr, Fe, Co, Cu and Ni. It is intended to provide a sputtering target for production of metallic glass film that in place of the high-cost conventional bulk metallic glass produced by quenching of a molten metal, is free from the problems of defects and composition heterogeneity of produced metallic glass film, and that has a homogeneous structure and can be produced efficiently at low cost, and that reduces the occurrence of nodules and particles, and to provide a process for producing the same.
L'invention concerne une cible de pulvérisation destinée à la production d'un film de verre métallique, caractérisé en ce qu'il comporte une source obtenue par frittage d'une poudre atomisée diamètre particulaire moyen = 50 µm possédant une composition de trois ou plusieurs éléments dont le composant principal (composant à pourcentage atomique le plus grand) consiste en au moins un élément métallique choisir parmi Pd, Zr, Fe, Co, Cu et Ni. L'objectif de cette invention consiste à fournir une cible de pulvérisation destinée à la production d'une feuille de verre métallique qui au lieu d'une feuille métallique brute classique à coût élevé produite par refroidissement rapide d'un métal fondu, est dépourvue de problèmes de défaut et d'homogénéité de composition de la feuille de verre métallique produite, et qui comporte une structure homogène et peut être produit de façon efficace à faible coût, tout en réduisant la formation de nodules et de particules, et de fournir un procédé de production correspondant.
Inoue Akihisa
Kimura Hisamichi
Nakamura Atsushi
Yahagi Masataka
Yamaura Shin-Ichi
Jx Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co. Ltd.
Smart & Biggar
Tohoku University
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1574438